ミリ波-HIP複合焼結による完全緻密セラミックスの作製

実施期間：2011 - 2011
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 大学院自然科学研究科, 教授 )
研究概要：

ミリ波焼結を一次焼結に用い、これに引き続く熱間静水圧加圧処理(HIP)と組み合わせることにより、気孔を排除した完全緻密セラミックスの作製を試みる。ミリ波照射による内部加熱、事後HIP圧力による緻密化といった利点を生かし、それぞれ単独や他の手法との組み合わせに比べ、特性を維持もしくは向上させつつ生産性の向上を図る。ミリ波加熱、HIP処理ともに圧力伝達媒体(加圧ロッド)を必要とせず、不純物の混入を抑えるためにも有効である。得られた完全緻密セラミックスは欠陥や不純物が排除されており、これらに敏感に影響を受ける光透過素子や放熱基板として特に有効であると考えられる

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研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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