三次元ナノネットワークの形成によるプロトン伝導性高分子電解質膜の創製

実施期間：2010 - 2010
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 工学部, 助教 )
研究概要：

天然ゴム粒子表面へのスチレンのグラフト共重合をラテックスの状態で行った後、生成したポリスチレンをスルホン化することにより、粒径約1μmの天然ゴム粒子と厚さ数十nmのスルホン化ポリスチレンから成る三次元ナノネットワークを有するプロトン伝導性高分子電解質膜を調製した。得られたプロトン伝導性高分子電解質膜は、工業的に利用されているペルフルオロカーボンスルホン酸膜(Nafion117)のプロトン伝導度よりも高く、さらにスルホン化ポリスチレン単体のプロトン伝導度の約三倍となることを明らかにした。また、スルホン化における条件の最適化を行い、0.8 Nのクロロスルホン酸を用いることにより高いプロトン伝導度を低吸水率で達成されることを明らかにした。

, , ,

研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

前のページに戻る