研課題
J-GLOBAL ID:202104016069471526  研究課題コード:7700108176

高性能ポリシリコン薄膜

実施期間:2000 -
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 教授 )
研究概要:
高密度・低損傷プラズマ技術により、結晶構造を制御したポリシリコン薄膜の大型ガラス基板への形成(マザーシートの作成)技術の研究開発を行う。フラットパネルディスプレイ等への応用など、各種デバイスへの利用が期待される。
タイトルに関連する用語 (2件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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