研課題
J-GLOBAL ID:202104016069471526
研究課題コード:7700108176
高性能ポリシリコン薄膜
実施期間:2000 -
実施機関 (1件):
研究代表者:
(
, 教授 )
研究概要:
高密度・低損傷プラズマ技術により、結晶構造を制御したポリシリコン薄膜の大型ガラス基板への形成(マザーシートの作成)技術の研究開発を行う。フラットパネルディスプレイ等への応用など、各種デバイスへの利用が期待される。
タイトルに関連する用語 (2件):
タイトルに関連する用語
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