研課題
J-GLOBAL ID:202104016579730860  研究課題コード:11101334

大気圧ドライプロセスによる汎用合成樹脂材料表面への高密度アミノ基導入

実施期間:2011 - 2011
実施機関 (1件):
研究責任者: ( , 大学院工学研究科, 教授 )
研究概要:
シクロオレフィン樹脂(COP)基板に、大気圧下で波長 172nm の真空紫外光を照射し、アミノシラン固定化サイトとなる水酸基を、表面光酸化により形成するステップと、大気圧下で 3-aminopropyltrimethoxy-silane(APS)蒸気に基板を接触させるステップからなる、アミノ化大気圧ドライプロセスを開発した。反応温度 70°Cで、表面窒素濃度 7%の APS 被覆が得られた。この値は、平滑な石英ガラス基板上に APS 単分子膜被覆をした場合の2倍強の値である。高密度で、APS がCOP 上に固定化されたことを示している。60-70°Cという比較的低温での被覆が可能であったことから、より耐熱性の低いオレフィン系ポリマーである、ポリエチレンやポリプロピレンへも対応できると考えられる。
研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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