研課題
J-GLOBAL ID:202104016748150348  研究課題コード:7700005441

フラックスエピタキシャル法による機能性単結晶薄膜基板の開発

実施期間:2006 - 2006
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 工学部 )
研究概要:
ネイチャーミメティック概念を導入したフラックス蒸発法により,高配向性あるいは高結晶性基板表面に機能性単結晶薄膜をエピタキシャル成長させ,その複合化基板を光学分野やバイオ分野をはじめとする産業分野で実用化するための研究を行う。本研究の最大の特長(独創性)は,大型装置や特殊環境を必要としない非常に簡便な方法で,安価で環境に調和した原料を用いて,高品質な単結晶皮膜を形成できることである。フラックスを適切に選択することで,他種多様な単結晶薄膜種と基板種に応用できることもキーワードである。コスト面(初期投資やランニングコスト)では,従来法に比べ圧倒的に有利である。最終的には,単結晶被覆領域の自由設計(デザイン化)と複数の単結晶薄膜積層を目標とする。
研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

前のページに戻る