真空・大気圧中で使用可能な精密搬すべり送装置用超低摩擦係数薄膜の開発

実施期間：2012 - 2013
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 工学部第一類(機械システム工学系), 准教授 )
研究概要：

シリコンウェハ搬送装置において要求される精度は年々厳しくなっており、より高精度の摺動装置が望まれている。使用環境を考慮すると、大気圧下のみならず真空下で低い摩擦係数を発現する材料が必要とされている。本研究では、低摩擦係数であるSiC薄膜を用いた。真空プロセスにより微細構造を形成させ、SiC薄膜の摩擦係数のさらなる改善を試みた。その結果、微細構造形成により、大気圧および真空において摩擦係数が低減可能であることを明らかにした。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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