シリコン/ゲルマニュウム新型積層構造太陽電池の開発

実施期間：2010 - 2012
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 総合理工学研究科, 准教授 )
研究概要：

スパッタ法により結晶ゲルマニウムを結晶シリコン上へヘテロエピタキシャル成長し、ゲルマニウムとシリコンを用いた新型積層構造太陽電池を提案・実現します。ゲルマニウムにより、これまでのシリコン薄膜太陽電池では吸収が難しかった700nm~1500nmのフォトンを余分に取り出し、変換効率の増加を目指します。

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研究制度：＞＞＞
上位研究課題：太陽電池および太陽エネルギー利用システム
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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