研課題
J-GLOBAL ID:202104017352311906  研究課題コード:08069063

高信頼性金属半導体ナノ複合材料の開発

実施期間:2008 - 2008
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 大学院工学研究科 )
研究概要:
シリコン表面にめっきを行うことで、従来にはない高い密着性を持つ金属薄膜をMEMSなどに用いられる複雑な形状の母材に均一に成膜する、高信頼性金属半導体ナノ複合材料を開発する。平成19年度シーズ発掘試験11-118「新規ウェットプロセスによる高密度垂直磁気記録媒体の製造」の成果を踏まえて、製造法を確立する。
研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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