超高密度ビットパターンド媒体対応の磁性合金エピタキシャル積層薄膜形成技術の開発

実施期間：2011 - 2011
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 理工学部, 助教 )
研究概要：

情報記録の主要技術となっている磁気記録分野では、記録の大容量化を図る新方式としてビットパターンド媒体技術が検討されており、ビットの磁気特性均一化のために、結晶方位と原子レベル構造を高度制御したエピタキシャル磁性薄膜形成技術の開発が必要となっている。本課題では、次世代記録層材料として有力候補であるRT5型希土類-遷移金属合金のエピタキシャル薄膜を単結晶基板上に形成する技術の開発を行った。RT5合金の希土類金属および遷移金属の種類を拡張させ、更に、RT5構造のRサイトおよびTサイトを複数種の元素で構成することにより、エピタキシャルRT5薄膜の結晶性やRT5規則構造形成のための基板温度、あるいは、飽和磁化などの磁気特性の制御範囲を拡大できることが明らかになった。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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