クラスターパターンによる絶対座標認識方法の応用に関する研究

実施期間：2005 - 2005
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( )
研究概要：

本研究は、ある規則性をもって生成されたクラスターパターン(たとえば、ドット、バーなどのグラフィックオブジェクトの組み合わせ) から平面上の絶対座標を読み取る技術の応用に関するものである。媒体は光学的な情報、すなわちクラスターパターンの印刷された紙であってもよいし、または電磁気的な情報であってもよい。当該技術はこのようなクラスターパターンを生成する技術とそれらを認識する技術からなり、本研究では、本学外国語教員からの要請に基づき、一例として、これを外国語教材のより効果的な活用方法の開発のために応用することを試みるものである。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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