研課題
J-GLOBAL ID:202104018973273516  研究課題コード:07050861

大面積電子デバイス用基盤技術のための大気圧マイクロプラズマ処理装置の開発

実施期間:2006 - 2009
実施機関 (1件):
研究責任者: ( , 理工学研究科, 准教授 )
研究概要:
液晶・有機電界発光ディスプレイ駆動用薄膜トランジスター(LCD・OLED-TFT)の基盤材料である多結晶シリコン(poly-Si)製造技術として、大気圧高周波熱プラズマトーチを熱源に、プラズマ直下の可動基板上に設置したアモルファスシリコン(a-Si)の結晶化技術を開発した。
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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