研課題
J-GLOBAL ID:202104020088714550  研究課題コード:07050855

スパッタ法によるZnO系透明導電膜の実用化技術の研究

実施期間:2005 - 2008
実施機関 (1件):
研究責任者: ( , 工学部, 教授 )
研究概要:
低抵抗ZnO系透明導電膜形成技術をスパッタ法で実用化するものであり、この実用化技術は、高品質焼結ターゲット作製技術、不純物添加量の最適化技術、高品質低温スパッタ膜作製技術、ディスプレー用導電膜プロセス技術、透明発熱体製品化技術、ZnO用スパッタ装置技術等の基盤技術から構成される。それぞれの技術において、専門的な技術を所有しているメンバーが参加しており、材料から製品化まで一連の開発を分担すること、また、事業化の目的が明確であること、さらに、低抵抗ZnO薄膜の実現に、コンビナトリアルスパッタ法を適用し、n型不純物元素の添加量の最適化法が確立されつつあり、早期に良質ターゲット組成が見いだされる可能性があること等の特徴を有し、実用化(事業化)の達成度は高い。
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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