研課題
J-GLOBAL ID:202104020348718105  研究課題コード:10100926

窒化ガリウム(GaN)基板の高能率・ダメージレス平坦化加工技術の開発

実施期間:2010 - 2012
実施機関 (2件):
企業責任者:
研究責任者: ( , 大学院工学研究科, 准教授 )
研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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