研課題
J-GLOBAL ID:202104020517094868  研究課題コード:19198782

3次元構造への高速被膜技術の開発

体系的課題番号:JPMJTM19C5
実施期間:2019 - 2020
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 電気電子工学系, 助教 )
DOI: https://doi.org/10.52926/JPMJTM19C5
研究概要:
本研究は、3次元構造に対して高い被覆性と高い形成速度を両立させる酸化物膜の形成手法を開発することを目的とする研究である。大気圧下で成膜可能な新規手法を用いて、高スループットかつ高い被覆性を実現できる技術を確立する。
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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