研課題
J-GLOBAL ID:202104021111908763  研究課題コード:08001583

レーザー描画基礎技術の研究開発

実施期間:2005 -
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 教授 )
研究概要:
システムLSIを生産するに当たり最大の課題は、システムLSIのパターン形成に使用されるマスク製造時の描画に時間がかかるため、その価格が異常に高額なことである。本研究開発では、露光用マスクの製造技術において、従来の電子ビーム描画に替わり、レーザービームを用いて高速にパターンを描画できる基礎技術を開発する。描画時間の大幅な短縮により、我が国のエレクトロニクス産業用の戦略商品であるモバイル・デジタル家電などに必須な少量多品種製品の生産コストを下げ、市場の拡大や競争力の向上に大きく貢献できる。
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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