イオン照射法による超平坦・超高密度ビットパターン媒体の開発

実施期間：2011 - 2012
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 工学研究科, 准教授 )
研究概要：

情報通信技術の高度化により、人類が扱う情報量は飛躍的に増大しており、これを低コスト、低消費電力で蓄えるハードディスクの高密度化が必要となっている。本研究は、次世代の記録媒体である超高密度ビットパターン媒体を低コストで作製できる技術を開発することを目的に研究開発を行い、以下の結果を得た。まず、300-400°C程度の実用的プロセス温度で成膜でき、イオン照射だけで強磁性/非磁性転移が可能なMn系材料を開発した。次に、このMn系材料を用いたイオン照射型ビットパターン媒体を試作し、表面平坦性に優れた微細磁気パターン構造を簡便な加工プロセスで実現できることを示した。

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研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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