Piedra Lorenzana Jose Alberto

研究分野 (1件)：電気電子材料工学

研究キーワード (5件)： Photonics devices , Crystal growth , Si , Ge , GaP

競争的資金等の研究課題 (1件)：

2023 - 2025 Novel group-IV nitride films by reactive sputtering as potential nonlinear optical materials in Si photonics

論文 (11件)：

Joshua Chombo, Mohd Faiz Bin Amin, Jose A. Piedra-Lorenzana, Takeshi Hizawa, Keisuke Yamane, Mingjun Jiang, Donghwan Ahn, Kazumi Wada, Yasuhiko Ishikawa. Anti-relaxation of tensile lattice strain in Si-embedded Ge strip structure for photonic device applications. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3
Takumi Maeda, Kota Kato, Jose A. Piedra-Lorenzana, Takeshi Hizawa, Tetsuya Nakai, Yasuhiko Ishikawa. Trench-filling heteroepitaxy of [100]-oriented germanium arrays on (001) silicon substrate. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3
Mohd Faiz Bin Amin, Jose A. Piedra-Lorenzana, Keisuke Yamane, Takeshi Hizawa, Tetsuya Nakai, Yasuhiko Ishikawa. High-quality Ge epitaxial film based on dislocation trapping mechanism in patterned Si substrate. Japanese Journal of Applied Physics. 2023
Kota Kato, Kazuki Motomura, Jose A. Piedra-Lorenzana, Mohd Faiz Bin Amin, Takeshi Hizawa, Tetsuya Nakai, Yasuhiko Ishikawa. Trench-Filling Epitaxy of Germanium on (001) Silicon Enhanced Using [100]-Oriented Patterns. Journal of Electronic Materials. 2023
Mohd Faiz Bin Amin, Takeshi Hizawa, Jose A. Piedra-Lorenzana, Tetsuya Nakai, Yasuhiko Ishikawa. Reduced Threading Dislocation Density in a Ge Epitaxial Film on a Submicron-Patterned Si Substrate Grown by Chemical Vapor Deposition. Journal of Electronic Materials. 2023

MISC (13件)：

CHOMBO Joshua, AMIN Mohd Faiz Bin, HIZAWA Takeshi, PIEDRA-LORENZANA Jose A., JIANG Mingjun, AHN Donghwan, WADA Kazumi, ISHIKAWA Yasuhiko. Si基板上に成長したGe埋め込み細線構造における引張格子ひずみ. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 70th
AMIN Mohd Faiz Bin, PIEDRA-LORENZANA Jose A., YAMENE Keisuke, HIZAWA Takeshi, NAKAI Tetsuya, ISHIKAWA Yasuhiko. V溝パターンを形成したSi基板上へのGe層のエピタキシャル成長. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 84th
PIEDRA-LORENZANA Jose A., KANEKO Shohei, FUKUSHIMA Takaaki, YAMANE Keisuke, FUJIKATA Junichi, ISHIKAWA Yasuhiko. Ge-on-SiフォトニックデバイスのためのAlNストレッサー層【JST・京大機械翻訳】. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 84th
PIEDRA-LORENZANA Jose A., KANEKO Shohei, FUKUSHIMA Takaaki, YAMANE Keisuke, FUJIKATA Junichi, ISHIKAWA Yasuhiko. Si上のGeフォトニックデバイス用のストレッサーとしての反応性スパッタリングによるAlN膜. 電子情報通信学会技術研究報告(Web). 2023. 123. 41(ED2023 1-9)
古家聖輝, 葛谷樹矢, PIEDRA-LORENZANA Jose A., 飛沢健, 山根啓輔, 石川靖彦. Si上Ge層の固相成長におけるGeエピタキシャル緩衝層の効果. 電子情報通信学会技術研究報告(Web). 2023. 123. 41(ED2023 1-9)

講演・口頭発表等 (46件)：

Franz-Keldysh Effect in Lateral pin Photodetectors of Ge Strip on Si at C-, L-, and U-band Wavelengths
(2024 IEEE Silicon Photonics Conference 2024)
Effect of Si cap layer on the lattice strain in a Ge wire structures grown on Si substrate
(第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
引張ひずみを増強したGe層を用いたSi上フリースペース近赤外受光器の特性評価
(第21回赤外放射応用関連学会年会 2024)
CVD Growth of SiGe Layer on Bulk Si for Optical Waveguide Application
(Photonic Device Workshop 2023 (PDW2023) 2023)
Formation of TEOS-SiOx film by PECVD for Si Photonics Applications
(Photonic Device Workshop 2023 (PDW2023) 2023)

所属学会 (1件)：

応用物理学会

※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。登録・更新については、こちらをご覧ください。