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J-GLOBAL ID:202202210786736305   整理番号:22A0152089

プラズマ増強原子層蒸着と低温アニーリングにより作製した高移動度p型Li_xCu_yO膜【JST・京大機械翻訳】

High-mobility p-type LixCuyO films prepared by plasma-enhanced atomic layer deposition and low-temperature annealing
著者 (9件):
資料名:
巻: 308  号: PB  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: E0935A  ISSN: 0167-577X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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高移動度,p型Li_xCu_yO膜を共添加プラズマ増強原子層堆積により作製した。X線回折パターンは,CuOとCu_2O相に加えて,生成したLiCu_3O_3が高移動度の原因であることを示した。350°CアニールLi_xCu_yO膜は,中間長波長で85%の透過率と2.4eVのバンドギャップを持つ。88cm2V-1s-1の正孔移動度に達し,通常のp型金属酸化物のものより著しく高い。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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二次電池  ,  酸化物薄膜 

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