二次元遷移金属カルコゲン化物のウエハスケール生成に向けて【JST・京大機械翻訳】

Wang Peijian; Yang Deren; Pi Xiaodong

プレプリント

J-GLOBAL ID：202202211395566992 整理番号：22P0300544

二次元遷移金属カルコゲン化物のウエハスケール生成に向けて【JST・京大機械翻訳】

Towards Wafer-Scale Production of TwoDimensional Transition Metal Chalcogenides

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発行年： 2022年03月08日プレプリントサーバーでの情報更新日： 2022年03月08日
JST資料番号： O7000B 資料種別：プレプリント
記事区分：プレプリント発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

二次元(2D)遷移金属カルコゲン化物(TMCs)は,層数,組成,および界面工学を通して,それらの多様性および優れた同調性のために,科学的および技術的コミュニティの両方から大きな興味を引いている。2DTMCのウエハスケール生産は,これらの材料の工業的応用に重要である。広範な努力が,様々なアプローチによる2DTMCの大面積成長に最も良くなされてきた。本レビューでは,化学蒸着(CVD),金属-有機CVD,物理蒸着などの異なる方法による大面積2DTMCを得る最近の進歩をまず強調し,それらの利点と短所も評価した。次に,2D TMCsのための制御可能で均一な厚さと大きな結晶領域を達成するために,結晶粒,形態,層数,および相の制御のための戦略について議論する。エレクトロニクス,オプトエレクトロニクス,スピントロニクスなどにおける大面積2DTMCの応用も紹介した。最後に,ウエハスケール2DTMCの将来の開発のためのアイデアと展望を提供した。【JST・京大機械翻訳】

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塩 , 半導体薄膜

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