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J-GLOBAL ID：202202211843407784   整理番号：22A0007957

超音波前処理によるビスフェノールAの塩素化からのTCNMの予想生成:空気中でのN_2からのN-DBPのための新しい窒素源【JST・京大機械翻訳】

An expected formation of TCNM from chlorination of bisphenol A with ultrasonic pretreatment: A new nitrogen source for N-DBP from N₂ in air

著者 (5件)： Gao Yu-qiong (School of Environment and Architecture, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China) ,  Zhang Jia (School of Environment and Architecture, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China) ,  Zhou Jin-qiang (School of Environment and Architecture, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China) ,  Chu Wen-hai (State Key Laboratory of Pollution Control and Resource Reuse, College of Environmental Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China) ,  Gao Nai-yun (State Key Laboratory of Pollution Control and Resource Reuse, College of Environmental Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 429  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超音波照射は,水中の新たな汚染物質(EC)を除去するために広く採用されてきたが,消毒副生成物(DBPs)の下流形成に対する超音波前処理の影響にはほとんど注意が払われていない。本研究では,水で頻繁に検出される典型的なECであるビスフェノールA(BPA)をモデル汚染物質として選択し,塩素化プロセス中のDBP生成に及ぼす超音波前処理の影響を調べた。BPAの超音波分解挙動は不均一Langmuir-Hinshelwood(L-H)モデルに良く適合し,BPAが水-気泡界面で主にフリーラジカル反応によって分解を受けることを示した。興味深いことに,直接塩素化と比較して,超音波前処理はその後の塩素化からトリクロロニトロメタン(TCNM)形成を明らかに増強した。LC/MS/MS法を適用し,BPAの変換生成物を分析した。芳香環のヒドロキシル化とC-C結合の開裂を支配するヒドロキシルラジカル(OH)に加えて,超音波誘起ニトロ化機構もBPA分解に関与し,生成したニトロ化生成物はその後の塩素化中のTCNM形成の原因である可能性がある。DBP生成と同様にBPAの超音波分解速度に影響する因子も調べた。一般的に,溶解O_2,より高い超音波周波数およびより高い電力はBPA分解に有利であったが,HCO_3-およびHAの存在はBPA分解を阻害し,Cl-はわずかな影響を示した。TCNM形成は,O_2またはN_2単独による散布により大きく低下した。より高い超音波周波数とパワーは,TCMとTCNM形成を強化した。HAの存在はTHM生成を促進したが,HCO_3-はTCNM形成を阻害した。したがって,超音波処理が代替水処理として採用されると,その後のDBP生成への影響は更なる研究を必要とする。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面 ,  気泡 ,  *超音波 ,  溶解 ,  電力 ,  *塩素化 ,  汚染物質 ,  水処理 ,  ニトロ化 ,  ラジカル反応 ,  超音波照射 ,  ヒドロキシ化 ,  ヒドロキシルラジカル ,  フェノール類
準シソーラス用語： 超音波分解 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 超音波治療 ,  塩素化 ,  ビスフェノールA ,  殺菌副産物 ,  トリクロロニトロメタン

分類 (1件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W)

物質索引 (1件)： ビスフェノールA

タイトルに関連する用語 (8件)： 超音波 ,  前処理 ,  ビスフェノールA ,  塩素化 ,  予想 ,  空気中 ,  DBP ,  窒素源