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J-GLOBAL ID：202202212525080059   整理番号：22A0836129

単層Cu,Moおよび多層Cu/Mo薄膜における歪速度依存変形機構【JST・京大機械翻訳】

Strain-rate dependent deformation mechanisms in single-layered Cu, Mo, and multilayer Cu/Mo thin films

著者 (6件)： Sahu Bibhu Prasad (Department of Materials Science and Engineering, University of Michigan, Ann Arbor, MI, 48109, USA) ,  Higgins Wesley H. (Department of Materials Science & Engineering, Texas A&M University, College Station, TX, 77843-3003, USA) ,  Derby Benjamin K. (Center for Integrated Nanotechnologies, Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, NM, 87545, USA) ,  Pharr George M. (Department of Materials Science & Engineering, Texas A&M University, College Station, TX, 77843-3003, USA) ,  Misra Amit (Department of Materials Science and Engineering, University of Michigan, Ann Arbor, MI, 48109, USA) ,  Misra Amit (Department of Mechanical Engineering, University of Michigan, Ann Arbor, MI, 48109, USA)
資料名： Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing  (Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing)
巻： 838  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0589B  ISSN： 0921-5093  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 全膜厚5μmのスパッタ蒸着単層Cu,Mo,および5nmCu/5nmMo,および100nmCu/100nmMo多層膜の10-2~102s-1の範囲の歪速度感受性と速度依存性硬度をナノインデンテーションを用いて測定した。ナノインデントの下の塑性域を断面透過型電子顕微鏡(XTEM)によって特徴づけた。多層膜は,増加した硬度を示したが,100nmから5nmの層厚さの減少で,歪速度感受性はわずかに低下した。5nmのCu/5nmMo多層膜のみがナノインデントの下のせん断帯を示し,せん断帯のサイズは歪速度の増加と共に増大した。対照的に,100nmのCu/100nmのMo多層膜は,インデント周辺の材料パイルアップとCu結晶粒内の顕著なナノ双晶を示した。多層薄膜の硬度と歪速度感受性に及ぼす歪速度と層厚の影響を,修正拘束層滑り(CLS)モデルを用いて解釈した。100nmに比べて5nmの減少した速度感度は,100nmのCu結晶粒中の豊富な成長ナノ双晶と5nm多層のせん断帯の形成と相関した。単層膜では,高密度の転位を有する下部組織が,インデントプラスチックゾーンの塑性ひずみ勾配と整合して観察された。変形双晶の証拠はどの試料でも認められなかった。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 塑性 ,  滑り ,  *薄膜 ,  *銅 ,  *モリブデン ,  感受性 ,  速度依存性 ,  剪断帯 ,  結晶粒 ,  *歪速度 ,  多層膜 ,  *機構 ,  層厚 ,  スパッタ蒸着
準シソーラス用語： ナノ双晶 ,  *変形機構 ,  歪速度感受性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： スパッタ蒸着単層および多層Cu/Mo膜 ,  微細構造 ,  ナノインデンテーション

分類 (1件)： 機械的性質  (WB02030U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 単層 ,  Cu ,  Mo ,  多層 ,  薄膜 ,  歪速度