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J-GLOBAL ID：202202212605428380   整理番号：22A0571870

ガス状スチレンの光触媒分解機構に及ぼす基質濃度と相対湿度の影響に対する原子レベル洞察【JST・京大機械翻訳】

Atomic-level insight into effect of substrate concentration and relative humidity on photocatalytic degradation mechanism of gaseous styrene

著者 (8件)： Chen Jiangyao (Guangdong Key Laboratory of Environmental Catalysis and Health Risk Control, Guangdong Technology Research Center for Photocatalytic Technology Integration and Equipment Engineering, Institute of Environmental Health and Pollution Control, Guangdong University of Technology, Guangzhou, 51...) ,  Chen Jiangyao (Guangzhou Key Laboratory of Environmental Catalysis and Pollution Control, Guangdong-Hong Kong-Macao Joint Laboratory for Contaminants Exposure and Health, School of Environmental Science and Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou, 510006, China) ,  Zhang Liyun (Guangdong Key Laboratory of Environmental Catalysis and Health Risk Control, Guangdong Technology Research Center for Photocatalytic Technology Integration and Equipment Engineering, Institute of Environmental Health and Pollution Control, Guangdong University of Technology, Guangzhou, 51...) ,  Zhu Weikun (Guangdong Key Laboratory of Environmental Catalysis and Health Risk Control, Guangdong Technology Research Center for Photocatalytic Technology Integration and Equipment Engineering, Institute of Environmental Health and Pollution Control, Guangdong University of Technology, Guangzhou, 51...) ,  Li Guiying (Guangdong Key Laboratory of Environmental Catalysis and Health Risk Control, Guangdong Technology Research Center for Photocatalytic Technology Integration and Equipment Engineering, Institute of Environmental Health and Pollution Control, Guangdong University of Technology, Guangzhou, 51...) ,  Li Guiying (Guangzhou Key Laboratory of Environmental Catalysis and Pollution Control, Guangdong-Hong Kong-Macao Joint Laboratory for Contaminants Exposure and Health, School of Environmental Science and Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou, 510006, China) ,  An Taicheng (Guangdong Key Laboratory of Environmental Catalysis and Health Risk Control, Guangdong Technology Research Center for Photocatalytic Technology Integration and Equipment Engineering, Institute of Environmental Health and Pollution Control, Guangdong University of Technology, Guangzhou, 51...) ,  An Taicheng (Guangzhou Key Laboratory of Environmental Catalysis and Pollution Control, Guangdong-Hong Kong-Macao Joint Laboratory for Contaminants Exposure and Health, School of Environmental Science and Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou, 510006, China)
資料名： Chemosphere  (Chemosphere)
巻： 291  号： P3  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： E0843A  ISSN： 0045-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 基質濃度と相対湿度(RH)は,工業用芳香族炭化水素の光触媒効率に影響するが,それらが中間体生成と分解経路にどのように影響するかは不明である。酸素同位体追跡法の助けを借りて,スチレンの分解機構に及ぼすこれら2つの環境パラメータの影響を原子レベルで明らかにした。スチレン濃度の増加は生成物生成に有利であったが,それはRH上昇によって阻害された。ガス状生成物は気相で直接形成されなかったが,界面中間体の脱着から生じた。揮発性アルデヒドとフランはH_218O中で18Oと16Oを交換した。RHの増加は,基質濃度よりも全ての生成物と経路で18O分布でより高い増強を示した。低RHは16O_2・-及び(16)1O_2の高い生成を優先し,反応を支配し,1-フェニル-1,2-エタンジオール,2-ヒドロキシ-1-フェニル-エタノン及びフェニルグリオキサール一水和物を順番に形成した。RHを増加させることによって,スチレンと促進18OHとの反応によるベンジルアルコール,ベンズアルデヒドおよび安息香酸の逐次生成が優勢になった。水和を最初に観察し,アルデヒドとフラン生成物の重要なガス状変換段階として確認した。著者らの知見は,それらの産業浄化効率をさらに改善するために,環境パラメータによって制御された芳香族炭化水素の光触媒分解機構への深い洞察を提供し,有機物の環境地球化学の運命を予測し,自然環境への悪影響を防止するのに役立つ。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面 ,  *濃度 ,  *相対湿度 ,  水和 ,  水和物 ,  アルデヒド ,  芳香族炭化水素 ,  *反応機構 ,  *光触媒 ,  中間体 ,  芳香族カルボン酸 ,  酸素複素環化合物 ,  ビニル化合物 ,  アルコール ,  芳香族化合物 ,  芳香族アルデヒド
準シソーラス用語： *分解機構 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 芳香族炭化水素 ,  高度酸化プロセス ,  反応条件 ,  活性酸素種 ,  酸素原子追跡

分類 (1件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W)

物質索引 (5件)： 安息香酸 ,  フラン ,  スチレン ,  ベンジルアルコール ,  ベンズアルデヒド

タイトルに関連する用語 (6件)： スチレン ,  光触媒分解 ,  基質 ,  相対湿度 ,  原子 ,  洞察