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J-GLOBAL ID：202202213986487695   整理番号：22A0901209

レジリエントモスアイナノインプリント反射防止および自己洗浄TiO_2スパッタ被覆PMMA膜【JST・京大機械翻訳】

Resilient moth-eye nanoimprinted antireflective and self-cleaning TiO₂ sputter-coated PMMA films

著者 (11件)： Jacobo-Martin Alejandra (Madrid Institute for Advanced Studies in Nanoscience (IMDEA Nanoscience), Ciudad Universitaria de Cantoblanco, C/ Faraday 9, 28049 Madrid, Spain) ,  Hernandez Jaime J. (Madrid Institute for Advanced Studies in Nanoscience (IMDEA Nanoscience), Ciudad Universitaria de Cantoblanco, C/ Faraday 9, 28049 Madrid, Spain) ,  Solano Eduardo (ALBA Synchrotron, Carrer de la Llum 2-26,08290 Cerdanyola del Valles, Barcelona, Spain) ,  Monclus Miguel A. (IMDEA Materials Institute, C/ Eric Kandel 2, Tecnogetafe, Getafe. 28906, Madrid, Spain) ,  Carlos Martinez Juan (ALBA Synchrotron, Carrer de la Llum 2-26,08290 Cerdanyola del Valles, Barcelona, Spain) ,  Fernandes Daniel F. (Solid State Electronics, The Ångstrom Laboratory, Uppsala University, SE-75121 Uppsala, Sweden) ,  Pedraz Patricia (Madrid Institute for Advanced Studies in Nanoscience (IMDEA Nanoscience), Ciudad Universitaria de Cantoblanco, C/ Faraday 9, 28049 Madrid, Spain) ,  Molina-Aldareguia Jon M. (IMDEA Materials Institute, C/ Eric Kandel 2, Tecnogetafe, Getafe. 28906, Madrid, Spain) ,  Molina-Aldareguia Jon M. (Mechanical Engineering Department, Universidad Politecnica de Madrid, 28006 Madrid, Spain) ,  Kubart Tomas (Solid State Electronics, The Ångstrom Laboratory, Uppsala University, SE-75121 Uppsala, Sweden) ,  Rodriguez Isabel (Madrid Institute for Advanced Studies in Nanoscience (IMDEA Nanoscience), Ciudad Universitaria de Cantoblanco, C/ Faraday 9, 28049 Madrid, Spain)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 585  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Moth-yeナノ構造は,反射防止,自己洗浄および殺菌能力を含む多機能性のため,自然界で最も注目すべき表面である。Moth-ey表面はテーパ状ナノ構造のサブ波長アレイから成り,人工的に再現するのが困難であった。ナノインプリントリソグラフィーは,この目的のための最も適切な技術の1つである。しかし,環境に曝露したときの高分子ナノコーンの貧弱な機械的レジリエンスと耐久性は,実際の応用におけるそれらの使用を妨げている。これらの限界を克服するために,本研究では,ポリメチルメタクリレート(PMMA)膜上にインプリントされた高分子ガ-アイ特性への薄い酸化物被覆の使用を実証した。特に,TiO_2共形薄膜被覆を,封止材として作用する反射防止ナノパターン上に単極パルスdcマグネトロンスパッタリングにより蒸着した。反射防止特性を保持しながら,被覆は機械的スクラッチに対してナノ構造を保護し,250°C以上まで熱安定性を大きく改善した。さらに,TiO_2層は付加的な光誘起自己浄化機能を提供し,同時にUV光分解からマトリックスを保護する。ここで開発したロバストで耐久性のある反射防止表面は,太陽電池カバー,フラットパネルディスプレイまたは光学部品への応用を見出す。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 紫外線 ,  太陽電池 ,  薄膜 ,  *防止 ,  *被覆 ,  高分子 ,  パルス ,  リソグラフィー ,  フラットパネルディスプレイ ,  ロバスト性 ,  ナノ構造 ,  サブ波長
準シソーラス用語： 光誘起 ,  ナノインプリントリソグラフィー ,  ナノコーン ,  ナノパターン ,  *反射防止 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 反射防止表面 ,  Moth眼表面 ,  ナノインプリントリソグラフィー ,  マグネトロンスパッタリング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 反射防止 ,  自己洗浄 ,  スパッタ被覆 ,  PMMA膜