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J-GLOBAL ID:202202214147467874   整理番号:22A0958409

Ag/VO_2(B)/SiO_x/n++Si RRAMにおけるバイポーラ抵抗スイッチング【JST・京大機械翻訳】

Bipolar resistive switching in Ag/VO2(B)/SiOx/n++Si RRAM
著者 (6件):
資料名:
巻:号:ページ: 035003 (8pp)  発行年: 2022年 
JST資料番号: W5570A  ISSN: 2053-1591  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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非揮発性抵抗ランダムアクセスメモリ(RRAM)はフラッシュメモリに対する可能な代替として推進されているが,最適な材料システムおよび洗練された製作技術は,実際の経路における利用を妨げている。ここでは,金属/酸化物/半導体(MOS)構造化Ag/VO_2(B)/SiO_x/n++Si RRAMの直接作製を,バイポーラ抵抗スイッチング挙動が得られ,系統的に研究した液滴被覆プロセスを通して実証した。RRAMデバイスは良好なサイクル対サイクル耐久性(>30サイクル)と高いオン/オフ比(>60)を示した。スイッチング機構を提案し,Ag/SiO_x/n++Si,Ag/VO_2(B)/SiO_x/n++Si素子の抵抗スイッチング挙動,及び電場の適用前後の対応するSEM画像を比較し,Ag/VO_2(B)-NaCl/SiO_x/n++SiデバイスにおけるNaCl障壁層の導入により確認した。本研究は,複雑な製作技術の助けなしに,超高密度抵抗メモリデバイスを作製する便利な経路であり,また,RRAMのための新しい潜在的材料システムを提供する。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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半導体集積回路 
タイトルに関連する用語 (4件):
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