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J-GLOBAL ID：202202214604374009   整理番号：22A0902498

磁性薄膜における界面スキルミオンとその応用【JST・京大機械翻訳】

Interfacial skyrmion in magnetic thin films and its applications

著者 (2件)： Sharma Rajnandini (School of Materials Science and Technology, Indian Institute of Technology (Banaras Hindu University), Varanasi 221005, India) ,  Mishra Shrawan Kumar (School of Materials Science and Technology, Indian Institute of Technology (Banaras Hindu University), Varanasi 221005, India)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 551  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トポロジー的に保護されたスピン配置は,情報蓄積および他の計算応用の将来であると予測される。種々の調査を通して,磁気スカイミオンは磁気領域壁と比較して低い駆動電流を消費し,メモリ貯蔵装置においてJoule加熱を著しく低減でき,エネルギー効率的,より速く,小型化メモリ貯蔵を容易にすることが証明された。最近,多数のホスト材料が,スカイミオンを利用するための凝縮物質において研究されている。繰返し強磁性(FM)/重金属(HM)から成る実験的磁気多層は,室温付近で界面スカイミオンを安定化できる。この精力レビューにおいて,界面スカイミオンを検出するのに利用された重要な実験技術とともに,界面スカイミオンをシミュレートするために用いられる理論モデルによる磁気スカイミオンの微視的起源の簡潔な紹介を提示した。また,レーストラックメモリ,論理ゲート,およびニューロモルフィックデバイスにおけるスカイミオンの潜在的応用に関する進展を強調した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 位相幾何学 ,  *界面 ,  記憶装置 ,  強磁性 ,  凝縮 ,  *磁性薄膜 ,  重金属 ,  小型化 ,  磁気 ,  抵抗加熱 ,  モデル ,  スピン ,  *スキルミオン
準シソーラス用語： 理論モデル ,  論理ゲート , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (8件)： スキルミオン ,  スピン-軌道結合 ,  Dzyloshinskii-Moriya相互作用 ,  電気的性質 ,  トポロジカルHall効果 ,  ラックメモリ ,  論理ゲート ,  神経形態デバイス

分類 (1件)： 酸化物結晶の磁性  (BM06050E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 磁性薄膜 ,  界面 ,  スキルミオン ,  応用