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J-GLOBAL ID：202202215345015726   整理番号：22A1163095

低圧グロー放電に及ぼす軸方向磁場の影響の機構解析【JST・京大機械翻訳】

Mechanism Analysis of the Effect of Axial Magnetic Field on Low Pressure Glow Discharge

著者 (2件)： Gao Shen (School of Electrical and Information, Changzhou Institute of Technology, Changzhou, China) ,  Fang Jun-Kang (School of Electrical and Information, Changzhou Institute of Technology, Changzhou, China)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 50  号： 4  ページ： 782-790  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低圧でのグロー放電パラメータに及ぼす軸方向磁場の影響を,本論文で研究した。最初に,軸磁場の下のPaschenの法則を修正した。結果は,同じ条件下で,磁場がグロー放電の絶縁破壊電圧を増加させることを示した。実験結果は理論解析と一致したが,実験値は理論値より高かった。第二に,平行場グロー放電の物理モデルを確立し,種々の圧力,放電間隔,および磁場の下のグロー放電のプラズマ密度を研究する。結果は,プラズマ密度が低圧での磁場の増加とともに増加することを示した。高圧において,磁場が大きいほど,プラズマ密度は小さくなった。同じ位置において,プラズマ密度は弱い磁場における放電間隔の増加とともに増加し,強い磁場における放電間隔の増加とともに減少する。磁石の表面積がアノードとカソードの表面積の20%に過ぎないとき,磁場の半径方向不均一性は,半径方向r=0のとき,プラズマ密度が最大値に達する。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *グロー放電 ,  *磁場 ,  磁石 ,  表面積 ,  プラズマ密度 ,  *放電 ,  *低圧 ,  半径方向 ,  モデル ,  Paschen則 ,  不均一性 ,  アノード ,  カソード
準シソーラス用語： 絶縁破壊電圧 ,  物理モデル ,  *軸方向磁場 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 低圧 ,  グロー放電 ,  軸方向磁場 ,  解析