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J-GLOBAL ID：202202215656770447   整理番号：22A0975739

プラズモン界面におけるハロゲン化物-金属錯体はプラズモンと励起分子に対する新しい減衰経路を創造する【JST・京大機械翻訳】

Halide-Metal Complexes at Plasmonic Interfaces Create New Decay Pathways for Plasmons and Excited Molecules

著者 (7件)： Stefancu Andrei (Faculty of Physics, Babes-Bolyai University, Romania) ,  Stefancu Andrei (Chair in Hybrid Nanosystems, Nanoinstitute Munich, Faculty of Physics, Ludwig-Maximilians-Universitaet Muenchen, Germany) ,  Biro Oana M. (Faculty of Physics, Babes-Bolyai University, Romania) ,  Todor-Boer Otto (INCDO-INOE 2000, Research Institute for Analytical Instrumentation, Romania) ,  Botiz Ioan (Interdisciplinary Research Institute in Bio-Nano-Sciences, Babes-Bolyai University, Romania) ,  Cortes Emiliano (Chair in Hybrid Nanosystems, Nanoinstitute Munich, Faculty of Physics, Ludwig-Maximilians-Universitaet Muenchen, Germany) ,  Leopold Nicolae (Faculty of Physics, Babes-Bolyai University, Romania)
資料名： ACS Photonics  (ACS Photonics)
巻： 9  号： 3  ページ： 895-904  発行年： 2022年 
JST資料番号： W5045A  ISSN： 2330-4022  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銀ナノ粒子(AgNPs)の化学的界面をハロゲン化物イオンと修飾することにより,吸着励起分子の全減衰速度及びプラズモン減衰速度を調整することが可能であることを示した。クリスタルバイオレット(CV)とローダミン6G(R6G)の単一分子表面増強Raman散乱と表面増強蛍光増強因子により,I-修飾AgNPs(AgNP@I)とBr-修飾AgNPs(AgNP@Br)が,Cl-修飾AgNP(AgNP@Cl)と比較して,励起CVとR6Gの全減衰速度を,約1.6~2.6倍増加させることを示した。さらに,表面プラズモン共鳴減衰を表面状態に分解する化学界面減衰は,AgNPs@Clに比べてAgNPs@IとAgNPs@Brで強いことを見出した。これらの結果は金属-ハロゲン化物表面錯体の形成を指摘する。これらの新しい界面状態は励起分子軌道と表面プラズモン励起の両方から電子を受容し,プラズモン界面の電子的動力学と反応性を完全に変えることができる。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン ,  *界面 ,  吸着 ,  蛍光 ,  表面準位 ,  *プラズモン ,  *励起 ,  *金属錯体 ,  *ハロゲン化物 ,  表面増強Raman散乱 ,  分子軌道 ,  ナノ粒子
準シソーラス用語： 表面プラズモン共鳴法 ,  単一分子 ,  銀ナノ粒子 ,  プラズモン励起 ,  表面増強蛍光 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： SERS ,  SEF ,  ハロゲン化物イオン ,  崩壊率 ,  化学的界面減衰 ,  プラズモン界面

分類 (2件)： 固体プラズマ  (BM02160W) ,  光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (9件)： プラズモン ,  界面 ,  ハロゲン化物 ,  金属錯体 ,  励起 ,  分子 ,  減衰 ,  経路 ,  創造