文献

J-GLOBAL ID：202202215815933737   整理番号：22A0576211

UV照射支援Fenton酸化を用いた実際のシェールガスフローバック水中の有機汚染物質の効率的除去:実現可能性研究とプロセス最適化【JST・京大機械翻訳】

Efficient removal of organic contaminants in real shale gas flowback water using Fenton oxidation assisted by UV irradiation: Feasibility study and process optimization

著者 (6件)： Liu Wenshi (College of Chemistry and Chemical Engineering, Southwest Petroleum University, Chengdu 610500, China) ,  Xiao Kai (College of Chemistry and Chemical Engineering, Southwest Petroleum University, Chengdu 610500, China) ,  Li Jing (HSE and Technical Supervision Research Institute of PetroChina Southwest Oil & Gasfield Company, Chengdu 610041, China) ,  Zhu Jin (PetroChina Southwest Oil & Gasfield Company, Chengdu 610041, China) ,  Sun Lingru (College of Chemistry and Chemical Engineering, Southwest Petroleum University, Chengdu 610500, China) ,  Chen Changtao (School of Chemical Engineering, Sichuan University, Chengdu 610065, China)
資料名： Process Safety and Environmental Protection  (Process Safety and Environmental Protection)
巻： 158  ページ： 687-697  発行年： 2022年 
JST資料番号： W0232A  ISSN： 0957-5820  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究の目的は,実際の頁岩ガス逆流水(SGFW)から有機汚染物質を除去する効果的な方法を同定することであった。結果は,初期pHが3または7にセットされたとき,オゾン処理が限られた全有機炭素(TOC)除去を達成するだけであることを示した。O_3/H_2O_2およびFentonプロセスと比較して,SGFWにおける超バイオレット(UV)-Fentonプロセスにより,より良い性能が観察された。UV-Fentonプロセスによる除去効率に及ぼすH_2O_2/COD,初期pH,H_2O_2/Fe2+,および反応時間の影響を,単一因子実験によって研究した。応答曲面法の中心複合計画から二次多項式予測モデル(RAdj2=0.9295)を用いて最適実験条件を得た。TOC除去効率は,最適条件(H_2O_2/化学的酸素要求量比11.54,H_2O_2/Fe2+比130.20,pH3.72,温度25°C,反応時間60分)下で,実際のSGFWでも70.02%に達することができた。さらに,TOC除去動力学は,擬二次速度論(R2=0.9609)によってより良く説明できた。UV支援Fenton酸化において,Fe2+に対するFe3+種のサイクルは,より多くのOHラジカルを再生するために加速され,その結果,より高いTOC除去効率をもたらした。さらに,ガスクロマトグラフィー-質量分析は,UV-FentonプロセスがSGFW中のほとんどの有機汚染物質を無機化できることを明らかにした。フタル酸ジブチルをモデル有機物として選択し,可能な分解機構を探った。本研究は,SGFW処理プロセスにおける有機除去ユニットの設計と操作のための参照を提供した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 多項式 ,  COD【水質】 ,  オゾン処理 ,  *紫外線照射 ,  *工程 ,  逆流 ,  TOC【炭素】 ,  有機物 ,  ヒドロキシルラジカル ,  無機化 ,  応答曲面法 ,  予測モデル
準シソーラス用語： *有機汚染物質 ,  フェントンプロセス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： シェールガス ,  逆流水 ,  UV-Fenton ,  ヒドロキシルラジカル ,  応答曲面法 ,  フタル酸ジブチル

分類 (1件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

物質索引 (1件)： フタル酸ジブチル

タイトルに関連する用語 (8件)： UV照射 ,  支援 ,  Fenton酸化 ,  水中 ,  有機汚染物質 ,  実現可能性 ,  研究 ,  プロセス最適化