文献
J-GLOBAL ID:202202216102470317   整理番号:22A0630373

強誘電体負性容量支援相転移電界効果トランジスタ【JST・京大機械翻訳】

Ferroelectric Negative-Capacitance-Assisted Phase-Transition Field-Effect Transistor
著者 (4件):
資料名:
巻: 69  号:ページ: 863-869  発行年: 2022年 
JST資料番号: H0369A  ISSN: 0885-3010  CODEN: ITUCER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
特に負容量ベースおよび相転移ベースデバイスにおいて,新しい急勾配デバイスの分野で大きな研究が行われている。本論文は,ハイブリッドデバイス,負容量支援相転移FinFET(NC-PT-FinFET)に及ぼす強誘電体(FE)と相転移材料(PTM)の作用を研究した。この統一作用から生じるいくつかのユニークな現象に遭遇し,これらの観察に基づく有効な議論を提供する。微分利得と相互コンダクタンスの顕著な増強,ドレインチャネル結合に対するPTMの影響におけるユニークな変化,FE厚さ(t_fe)によるPTMを通したヒステリシスの同調性,および両方の因子の低下による超低サブ閾値勾配(SS)は,NC-PT-FinFETの主要な結果のいくつかである。数学的表現と物理的解釈の助けを借りて,あらゆるデバイス性能パラメータで観察される興味深い特徴において,FEとPTMの個々の役割を理解することに焦点を当てた。このハイブリッドデバイスに存在する様々な調整可能なパラメータは,ディジタルおよびメモリ応用におけるその適用性を広げる。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る