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J-GLOBAL ID：202202217667088430   整理番号：22A0584132

電着によるテルル化銅薄膜の合成とそれらの電気的および熱電特性【JST・京大機械翻訳】

Synthesis of Copper Telluride Thin Films by Electrodeposition and Their Electrical and Thermoelectric Properties

著者 (4件)： Park Jungjoon (1Department of Materials Science and Chemical Engineering, Hanyang University, Ansan, South Korea) ,  Seo Jinmyeong (1Department of Materials Science and Chemical Engineering, Hanyang University, Ansan, South Korea) ,  Lim Jae-Hong (2Department of Materials Science and Engineering, Gachon University, Seongnam, South Korea) ,  Yoo Bongyoung (1Department of Materials Science and Chemical Engineering, Hanyang University, Ansan, South Korea)
資料名： Frontiers in Chemistry (Web)  (Frontiers in Chemistry (Web))
巻： 10  ページ： 799305  発行年： 2022年 
JST資料番号： U7065A  ISSN： 2296-2646  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多くのエレクトロニクス分野で重要な金属間銅テルル化物薄膜を,種々のイオン源濃度を有する低pH水性電解質浴中で定電位法を用いて電着し,形成された膜の電気的性質を基板からの剥離後に調べた。膜をサイクリックボルタンメトリーによって電気化学的に分析し,一方,表面と断面形態,組成比,および電気的性質を,走査電子顕微鏡,X線回折,X線光電子分光法,紫外光電子分光法,およびHall効果実験によって分析した。各浴中で種々の電位で合成したテルル化銅薄膜は異なる組成比と構造を示した。従って,それらは,異なる電気伝導率,キャリア濃度,移動度,Seebeck係数を含む様々な電気的および熱電特性を示す。それらの中で,1:1Cu:Te比を有する薄膜は,2つの相間の界面でのキャリアフィルタリングにより,最高の力率を与えた。Copyright 2022 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  イオン源 ,  移動度 ,  界面 ,  走査電子顕微鏡 ,  電位 ,  *電着 ,  電気伝導率 ,  *薄膜 ,  *銅 ,  フィルタリング ,  テルル化物 ,  電子技術 ,  キャリア密度 ,  サイクリックボルタンメトリー

著者キーワード (5件)： テルル化銅 ,  電着 ,  熱電 ,  組成制御 ,  キャリアフィルタリング効果

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X)

引用文献 (26件)：

• BhuvaneswariP. V., RamamurthiK., Ramesh BabuR. (2017). Influence of Substrate Temperature on the Structural, Morphological, Optical and Electrical Properties of Copper Telluride Thin Films Prepared by Electron Beam Evaporation Method. Thin Solid Films 632, 44-49. doi: 10.1016/j.tsf.2017.04.035
• ChenH., WangL. (Editors)(2017). “"Posttreatment Strategies for Biomass Conversion,"” in Technologies for Biochemical Conversion of Biomass, Academic Press, 197-217. doi: 10.1016/b978-0-12-802417-1.00008-9
• ChoG., ParkY., HongY.-K., HaD.-H. (2019). Ion Exchange: An Advanced Synthetic Method for Complex Nanoparticles. Nano Convergence 6, 1-17. doi: 10.1186/s40580-019-0187-0
• DhasadeS. S., HanS. H., FulariV. J. (2012). A Nanostructured Copper Telluride Thin Film Grown at Room Temperature by an Electrodeposition Method. J. Semicond. 33, 093002. doi: 10.1088/1674-4926/33/9/093002
• DorfsD., HärtlingT., MisztaK., BigallN. C., KimM. R., GenoveseA., et al (2011). Reversible Tunability of the Near-Infrared Valence Band Plasmon Resonance in Cu2-xSe Nanocrystals. J. Am. Chem. Soc. 133, 11175-11180. doi: 10.1021/ja2016284

タイトルに関連する用語 (4件)： 電着 ,  テルル ,  銅薄膜 ,  熱電特性