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J-GLOBAL ID:202202217826116384   整理番号:22A0901333

Ni基超合金GH202表面へのイオン注入により誘起された非晶質層の高温酸化抵抗【JST・京大機械翻訳】

High temperature oxidation resistance of an amorphous layer induced by ion implantation on the surface of Ni-based superalloy GH202
著者 (8件):
資料名:
巻: 586  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Ni基超合金GH202の高温繰返し酸化挙動を,1100°CでのYイオン注入前後で調べた。イオン注入によって処理した合金表面の化学組成と微細構造を,X線光電子分光法,高分解能透過型電子顕微鏡,電子プローブマイクロ分析,および走査電子顕微鏡を用いて特性評価した。その結果,超合金表面に30nm厚さの非晶質層が形成した。Yイオンの合金原子との衝突は,空孔や転位のような多数の結晶欠陥をもたらした。注入線量を増加させると,イオンの衝撃は転位を移動させ,転位もつれと転位配列を形成し,高温酸化中のアルミニウム(Al)イオンの短絡拡散チャネルを提供した。イオン注入によって処理した試料の表面上の酸化膜は40回の酸化サイクル後に無傷であり,内部酸化は基板中に生じなかった。Yイオンは不均一核形成粒子を提供し,Al_2O_3核形成位置間の距離を減少させ,連続的で緻密な膜の形成を促進した。非晶質層は酸化膜中の外部カチオン拡散から内部アニオン拡散への酸化機構を変化させた。酸化膜の成長速度は効果的に居住し,高温酸化抵抗は著しく改善された。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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防食  ,  その他の表面処理 
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