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J-GLOBAL ID:202202218100492948   整理番号:22A0730056

UVフェムト秒レーザによるシリカの多光子過程研究【JST・京大機械翻訳】

Multiphoton process investigation in silica by UV femtosecond laser
著者 (7件):
資料名:
巻: 580  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: D0642A  ISSN: 0022-3093  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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高強度フェムト秒紫外レーザパルスと非晶質シリカ間の相互作用過程を調べ,フォトニックデバイスのための先進製造に基づく永久屈折率変化を導いた。レーザパワーの関数として行った実験は,非架橋酸素正孔中心と自己捕獲励起子に関連した1.9eVと2.65eV発光の監視による強磁場イオン化過程に関する理解を,曝露ガラス領域で誘起した。著者らの結果は,UVレーザ光バンドからバンドへの吸収が多光子イオン化限界で許容され,その連続緩和がこれらの光ルミネセンス(PL)シグネチャの生成をもたらすことを明確に示した。さらに,オンラインPL研究を,相コントラスト顕微鏡,Ramanおよび定常状態PLによる照射体積の事後分析と組み合わせて,シリカ-フェムト秒レーザ相互作用の完全な見解を提供した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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無機化合物のルミネセンス  ,  ガラスの性質・分析・試験 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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