文献

J-GLOBAL ID：202202219026403488   整理番号：22A0232703

連続歪経路変化中のin-situ微細構造特性化のための新しい試験方法の開発【JST・京大機械翻訳】

Development of a novel testing methodology for in-situ microstructural characterisation during continuous strain path change

著者 (5件)： Dhara Sisir (WMG, University of Warwick, Coventry, CV4 7AL, UK) ,  Taylor Scott (WMG, University of Warwick, Coventry, CV4 7AL, UK) ,  Figiel Lukasz (WMG, University of Warwick, Coventry, CV4 7AL, UK) ,  Hughes Darren (WMG, University of Warwick, Coventry, CV4 7AL, UK) ,  Hazra Sumit (WMG, University of Warwick, Coventry, CV4 7AL, UK)
資料名： Materials Characterization  (Materials Characterization)
巻： 183  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0448C  ISSN： 1044-5803  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 歪経路遷移は,薄板金属の連続スタンピング操作中の一般的な現象であり,材料の成形限界を潜在的に変えることができる。単一実験での歪経路変更は,いくつかの研究者が直面する重要な挑戦である。材料成形限界に及ぼす連続歪経路変化の影響を理解するために,材料の歪経路を連続的に変化する間,材料を変形する詳細な材料特性評価が必要である。本研究では,新しい機械的リグと試料設計から成る試験法を開発した。機構は,DP600鋼とAA5182-Oアルミニウム試料を,試験片を除荷することなく連続的に歪経路を変えることを可能にした。試験中の試料の歪進展のディジタル画像相関測定は,この技法が試料の歪経路を一軸から二軸歪経路へ変えることができることを示した。特に,測定は,1軸から2軸歪経路への遷移が,AA5182-OよりDP600で鋭くなることを示した。試験は,歪経路遷移中の微細構造の挙動を観察するために,走査電子顕微鏡(SEM)チャンバで繰り返した。微細構造歪進展は歪バンドの回転を示し,一方,電子後方散乱回折(EBSD)マップの発展は,両材料における連続歪経路変化中に結晶粒回転を伝達した。歪経路遷移は,優先結晶方位を持つ結晶粒の回転を制御した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 走査電子顕微鏡 ,  鋼 ,  結晶方位 ,  *結晶粒 ,  除荷
準シソーラス用語： 試験方法 ,  チャンバ ,  *歪経路 ,  AA5182 ,  スタンピング ,  成形限界 ,  EBSD ,  ディジタル画像相関 ,  DP600 ,  材料特性評価 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： シートメタルスタンピング ,  歪経路変化 ,  有限要素モデリング ,  微細構造のキャラクタリゼーション ,  その場SEM ,  その場EBSD

分類 (3件)： 変態組織,加工組織  (WB01030N) ,  機械的性質  (WB02030U) ,  金属材料  (HC05020S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 歪経路 ,  微細構造 ,  特性化 ,  試験方法 ,  開発