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J-GLOBAL ID：202202219299306541   整理番号：22A1115225

連続高出力マグネトロンスパッタリングにより堆積したCrAlN/CrAl多層被覆の作製と切削性能【JST・京大機械翻訳】

Fabrication and cutting performance of CrAlN/CrAl multilayer coatings deposited by continuous high-power magnetron sputtering

著者 (12件)： Liu Liangliang (Department of Physics, Department of Materials Science and Engineering, and Department of Biomedical Engineering, City University of Hong Kong, Tat Chee Avenue, Kowloon, Hong Kong, China) ,  Liu Liangliang (School of Advanced Materials, Peking University Shenzhen Graduate School, Shenzhen, 518055, China) ,  Ruan Qingdong (Department of Physics, Department of Materials Science and Engineering, and Department of Biomedical Engineering, City University of Hong Kong, Tat Chee Avenue, Kowloon, Hong Kong, China) ,  Wu Zhongzhen (School of Advanced Materials, Peking University Shenzhen Graduate School, Shenzhen, 518055, China) ,  Li Dan (Department of Physics, Department of Materials Science and Engineering, and Department of Biomedical Engineering, City University of Hong Kong, Tat Chee Avenue, Kowloon, Hong Kong, China) ,  Huang Chao (Department of Physics, Department of Materials Science and Engineering, and Department of Biomedical Engineering, City University of Hong Kong, Tat Chee Avenue, Kowloon, Hong Kong, China) ,  Wu Yuzheng (Department of Physics, Department of Materials Science and Engineering, and Department of Biomedical Engineering, City University of Hong Kong, Tat Chee Avenue, Kowloon, Hong Kong, China) ,  Li Tijun (School of Advanced Materials, Peking University Shenzhen Graduate School, Shenzhen, 518055, China) ,  Wu Zhongcan (School of Advanced Materials, Peking University Shenzhen Graduate School, Shenzhen, 518055, China) ,  Tian Xiubo (School of Advanced Materials, Peking University Shenzhen Graduate School, Shenzhen, 518055, China) ,  Fu Ricky K.Y. (Department of Physics, Department of Materials Science and Engineering, and Department of Biomedical Engineering, City University of Hong Kong, Tat Chee Avenue, Kowloon, Hong Kong, China) ,  Chu Paul K. (Department of Physics, Department of Materials Science and Engineering, and Department of Biomedical Engineering, City University of Hong Kong, Tat Chee Avenue, Kowloon, Hong Kong, China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 48  号： 10  ページ： 14528-14536  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 連続高出力マグネトロンスパッタリング(C-HPMS)は,プリント回路基板(PCBs)の加工/切断のためのマイクロミリングによる要求を満たすために,高い硬度と滑らかな表面を有するコーティングを作製する望ましい技術の1つである。しかし,高い切削速度において,PCB中の硬質ガラス繊維と接触する高い残留応力のため,被覆上に壊滅的破壊が発生する。本研究では,薄いCrAl中間層から成るCrAlN/CrAl多層コーティングを作製し,特性化した。薄いCrAl層は,残留応力を-6.7GPaから-1.5GPaに大幅に減少させ,一方,35GPaの硬度は保持された。さらに,接着強度と耐摩耗性は中間層の添加によってかなり改善される。PCB切削試験は,CrAl層が被覆の突然破壊を軽減し,切削安定性と耐用年数を2倍近く改善することを明らかにした。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 残留応力 ,  耐摩耗性 ,  *切削 ,  ガラス繊維 ,  *被覆 ,  接着強さ ,  切削試験 ,  プリント基板 ,  *切削性 ,  硬度 ,  マグネトロンスパッタリング ,  多層 ,  硬質
準シソーラス用語： 切削速度 ,  *多層コーティング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： マイクロミリング ,  多層 ,  C-HPMS ,  残留応力 ,  PCB切断

分類 (2件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高出力 ,  マグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  多層被覆 ,  作製 ,  切削性能