文献
J-GLOBAL ID:202202219833630955   整理番号:22A0687442

キャリア濃度の段階的最適化によるn型Bi_2GeTe_4系熱電材料の高室温性能指数【JST・京大機械翻訳】

High near-room temperature figure of merit of n-type Bi2GeTe4-based thermoelectric materials via a stepwise optimization of carrier concentration
著者 (16件):
資料名:
巻: 433  号: P3  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: D0723A  ISSN: 1385-8947  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
Bi_2GeTe_4は,低い格子熱伝導率を有する室温熱電候補として有望である。固有のBi_2GeTe_4のキャリア濃度は,小さなGe含有量調整で劇的に変化し,キャリア濃度の最適化に挑戦をもたらす。この課題を克服するために,まず,Bi_2GeTe_4に過剰なGeを導入し,Fermi準位を伝導バンドに深くシフトさせ,Bi_2GeTe_4を高度に縮退したn型半導体に変換する。第二に,埋め込まれたp型Bi_2Ge_2Te_5二次相はFermi準位とキャリア濃度のさらなる最適化を誘起する。最後に,合成したBi_2GeTe_4系材料の力率は,Bi_2Ge_xTe_4の名目上のGe含有量(x)を1から1.45に増加させると,423Kで~0.08μWcm-1K-2から~4.2μWcm-1K-2へと大幅に増加した。対応して,Bi_2GeTe_4系熱電材料において,423Kにおける約0.22の高い性能指数を達成した。この結果は,著者らの実行可能な段階的戦略を用いて,キャリア濃度を最適化し,n型Bi_2GeTe_4の高い熱電性能を達成できることを示した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
触媒操作  ,  光化学一般 

前のページに戻る