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J-GLOBAL ID：202202220798329883   整理番号：22A1096403

CeO_2触媒のNH_3-SCR活性に及ぼすWドーピングと硫酸塩修飾の相乗的促進効果【JST・京大機械翻訳】

The synergistic promotional effect of W doping and sulfate modification on the NH₃-SCR activity of CeO₂ catalyst

著者 (5件)： Xiong Zhibo (School of Energy and Power Engineering, University of Shanghai for Science & Technology, Shanghai, 200093, China) ,  Wang Wei (School of Energy and Power Engineering, University of Shanghai for Science & Technology, Shanghai, 200093, China) ,  Li Jun (School of Energy and Power Engineering, University of Shanghai for Science & Technology, Shanghai, 200093, China) ,  Huang Lihao (School of Energy and Power Engineering, University of Shanghai for Science & Technology, Shanghai, 200093, China) ,  Lu Wei (School of Energy and Power Engineering, University of Shanghai for Science & Technology, Shanghai, 200093, China)
資料名： Molecular Catalysis  (Molecular Catalysis)
巻： 522  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0605C  ISSN： 2468-8231  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面酸サイトの促進剤として,硫酸塩修飾またはドープタングステンはCeO_2のNH_3-SCR活性を改善するために通常使用されているが,前者はセリウム-タングステン系触媒の活性に被毒することが確認された。ここでは,ワンポット水熱法により合成したCeO_2のNH_3-SCR活性についてWドーピングと硫酸塩修飾の相乗的促進効果を達成し,Ce_0.95W_0.05O_z-TAは温度範囲150~400°Cで最適な脱NO_x性能を有した。キャラクタリゼーションの結果は,硫酸塩修飾に基づいて,WのドーピングがCeO_2-TAの表面上のCeと硫酸塩種の分散の改善に寄与し,触媒表面に吸着された硫酸塩の量を制御することを示した。さらに,Wドーピングと硫酸塩改質の相乗効果は,CeO_2の酸部位と還元性を改善し,特にBroensted酸部位の豊度と強度を増加させた。Wのドーピングは,Ce_0.95W_0.05O_zとCe_0.95W_0.05O_z-TAの両方の表面上に起こるCe3++W6+⇔Ce4++W5+のレドックスサイクルに寄与した。そして,Wドーピングと硫酸塩改質のこの相乗的相互作用は,酸素空孔と表面化学吸着した酸素の存在量によって,重度の構造歪みを誘起し,それによって,CeO_2のNH_3-SCR活性を増加させた。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 化学吸着 ,  水熱合成 ,  相互作用 ,  酸素 ,  セリウム ,  タングステン ,  *硫酸塩 ,  相乗作用 ,  *ドーピング ,  還元性 ,  キャラクタリゼーション ,  Broensted酸
準シソーラス用語： 温度範囲 ,  酸素空格子点 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： NH_3-SCR ,  CeO_2 ,  硫酸塩修飾 ,  Wドーピング ,  相乗的促進効果

分類 (2件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  有害ガス処理法  (SC04030H)

タイトルに関連する用語 (7件)： 触媒 ,  SCR ,  活性 ,  ドーピング ,  硫酸塩 ,  修飾 ,  促進