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J-GLOBAL ID:202202221080014203   整理番号:22A0799244

NO_xガスの低温検出のためのITO表面上のZnOナノロッドアレイ膜のin situ成長【JST・京大機械翻訳】

In situ growth of ZnO nanorods array film on the surface of ITO for low temperature detection of NOx gas
著者 (4件):
資料名:
巻: 142  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: W1055A  ISSN: 1369-8001  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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窒素酸化物は,中程度の大気濃度またはそれ以上(10-20mmHg)で吸入すると,最も有害なガスの一つであり,ヒトの健康に毒性が高い。センシングNO_xは,低温レベルと室温で最も挑戦的な課題の1つである。ZnOナノ構造を水熱法で合成した。ZnOナノロッドアレイ膜の濡れ性とガス感度を研究した。結果は,ZnOナノロッド配列膜がKClの添加によって疎水性であることを示した。さらに,ZnOナノロッドアレイ膜はNO_xに対して正の応答を示した。ガス検知性能は,ZnOナノロッドアレイ膜に基づくセンサ応答が0.1~3ppmの範囲でNO_xの濃度と線形関係を有することを示した。それは良好な再現性と選択性を有する。NO_xに対する最大感度は120°Cの操作温度で得られた。NO_xの濃度が3ppmのとき,センサの応答は25であった。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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固体デバイス材料  ,  酸化物の結晶成長 
タイトルに関連する用語 (5件):
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