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J-GLOBAL ID：202202221678270626   整理番号：22A0285318

半導体プロセスで活躍する計測技術・機器 3次元形状測定と抵抗測定の測定技術

著者 (1件)： 井口恭 (フィルメトリクス)
資料名： 計測技術  (Instrumentation and Automation)
巻： 50  号： 1  ページ： 41-45  発行年： 2022年01月05日 
JST資料番号： S0852A  ISSN： 0385-9886  CODEN： KEGIDR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・本稿では,半導体業界における光学式3次元表面形状測定システムとシート抵抗測定システムの測定事例を紹介。
・白色干渉技術を基に段差や粗さを含む3次元の形状を高精度に測定する3次元表面形状測定システムProfilm3Dの外観および高さ分解能(ナノメートルオーダー)など主な特徴解説。
・BGAパッケージに形成されたバンプやニオブ酸リチウムなどを用いた基板による導波路デバイスの高さ・幅・形状の測定などProfilm3Dを用いた半導体測定事例の紹介。
・さらにバイオ研究や化学分野におけるマイクロ流体デバイスの流路幅や深さ測定事例およびソーラーパネルの反射率低減を目的とした表面の粗さ・形状測定事例の紹介。
・抵抗測定技術と卓上式自動マッピング測定技術を組み合わせて新規開発したシート抵抗測定システムR50の外観と特長及び測定事例紹介。

シソーラス用語： *半導体プロセス ,  *形状測定 ,  三次元測定 ,  *電気抵抗 ,  *計測 ,  分解能 ,  光干渉法 ,  事例研究 ,  バンプ ,  半導体チップ ,  切込 ,  マイクロ流体デバイス ,  マスク ,  パネル ,  表面粗さ
準シソーラス用語： ソーラパネル ,  はんだバンプ ,  導波路デバイス ,  白色干渉法

分類 (2件)： 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 半導体プロセス ,  計測技術 ,  3次元形状測定 ,  抵抗測定