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J-GLOBAL ID：202202221747930933   整理番号：22A1156814

コスト効率の良い噴霧器噴霧熱分解法により堆積したEuドープSnS_2薄膜の光感度特性【JST・京大機械翻訳】

Photosensitivity properties of Eu-doped SnS₂ thin films deposited by cost-effective nebulizer spray pyrolysis technique

著者 (6件)： Arulanantham A. M. S. (St. Joseph College of Arts and Science, Tirunelveli, India) ,  Raj P. Mohan (Department of Physics, Pondicherry University, Pondicherry, India) ,  Gunavathy K. V. (Thin Film Research Centre, Kongu Engineering College, Perundurai, India) ,  Begam M. Rigana (Department of Physics, School of Science and Humanities, Vel Tech Rangarajan Dr.Sagunthala R&D Institute of Science and Technology, Chennai, India) ,  Ganesh V. (Advanced Functional Materials and Optoelectronic Laboratory (AFMOL), Department of Physics, Faculty of Science, King Khalid University, Abha, Saudi Arabia) ,  Algarni H. (Advanced Functional Materials and Optoelectronic Laboratory (AFMOL), Department of Physics, Faculty of Science, King Khalid University, Abha, Saudi Arabia)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 128  号： 4  ページ： 364  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,ネブライザ噴霧法によりガラス基板上に蒸着したSnS_2薄膜の構造,形態,電気伝導率および光電子特性へのユウロピウムドーピングの結果を検討した。X線回折分析は,平面(002)から回折した高度に優先配向した純粋およびEuドープSnS_2薄膜の両方において六方晶構造の存在を証明した。2%EuドープSnS_2薄膜では,支配的なピークの強度が最も高いことを示した。XRDデータから,結晶サイズは2%SnS_2:Euで最も高く,同じ試料は0.97×1015線/m2の転位密度と0.081×10-3/線2m4の微小歪を示した。結晶サイズは,Eu(0~2%)のドーピング濃度の増加とともに,最初に増加し,次に,より高い濃度で減少した。SEMとAFMミクロ画像は,より高いEu濃度における結晶粒の凝集を明らかにした。EDAX研究による組成分析はEu,SnおよびSの存在を支持した。Euドーピングが2から6%に増加すると,SnS_2光学バンドギャップ値は2.70から2.91eVに変化することが分かった。すべてのSnS_2薄膜試料はHall研究から認証されたn型伝導率を示し,5.43×1017cm-3の高いキャリア濃度を有する4.34×10-1cmの低い抵抗率がSnS_2:Eu(2wt%)で観察された。同じ試料は,より高い応答性(41.64×10-3AW-1),適格な外部量子効率(97.24%),およびより良い検出性(40.88×108Jones)を確立した。したがって,2%EuドープSnS_2膜は高速オプトエレクトロニックデバイスの作製に最も適していると認識されている。また,本論文では,空気およびUV照射下での光検出器性能の推定機構を検討した。Copyright The Author(s), under exclusive licence to Springer-Verlag GmbH, DE part of Springer Nature 2022 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  基板 ,  電気抵抗率 ,  電気伝導率 ,  *薄膜 ,  *ドーピング ,  結晶粒 ,  *ユウロピウム ,  キャリア密度 ,  六方晶系 ,  優先配向 ,  光学ギャップ ,  ネブライザー
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  外部量子効率 ,  光電子デバイス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ユウロピウムドープSnS_2 ,  光学的研究 ,  Hall効果測定 ,  光感受性

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (8件)： コスト効率 ,  噴霧器 ,  噴霧熱分解法 ,  堆積 ,  Eu ,  ドープ ,  薄膜 ,  感度特性