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J-GLOBAL ID：202202222572068223   整理番号：22A0958410

有機パターンの面積選択的成長に対する分子拡散長の効果【JST・京大機械翻訳】

Effects of molecular diffusion length on area-selective growth of organic patterns

著者 (8件)： Jiang Yue (Department of Applied Physics, Zhejiang University of Technology, 288, Liuhe Road,Hangzhou, 310023, People’s Republic of China) ,  Cai Yichen (School of Information Science and Technology, Fudan University, Shanghai 200433, People’s Republic of China) ,  Li Jianping (School of Information Science and Technology, Fudan University, Shanghai 200433, People’s Republic of China) ,  Chen Naibo (Department of Applied Physics, Zhejiang University of Technology, 288, Liuhe Road,Hangzhou, 310023, People’s Republic of China) ,  Hu Laigui (School of Information Science and Technology, Fudan University, Shanghai 200433, People’s Republic of China) ,  Wang Wenchong (Physikalisches Institut and Center for Nanotechnology, Universitaet3 Physikalisches Institut and Center for Nanotechnology, Universitaet Muenster, Wilhelm-Klemm-Strasse 10, 48149 Muenster, Germany) ,  Nie Qing-Miao (Department of Applied Physics, Zhejiang University of Technology, 288, Liuhe Road,Hangzhou, 310023, People’s Republic of China) ,  Yan Bo (Department of Applied Physics, Zhejiang University of Technology, 288, Liuhe Road,Hangzhou, 310023, People’s Republic of China)
資料名： Materials Research Express  (Materials Research Express)
巻： 9  号： 3  ページ： 035101 (8pp)  発行年： 2022年 
JST資料番号： W5570A  ISSN： 2053-1591  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オガニックデバイスは,フレキシブル/摩耗可能なエレクトロニクスのための有望な候補として,過去数十年で多くの進歩を得ている。しかし,有機半導体(OSC)の無機物に対する従来のトップダウンリソグラフィー技術との不適合性のため,広い用途のための有機マイクロエレクトロニクスシステムの実現はまだ困難である。この課題を解決するため,ボトムアップリソグラフィー適合性法を有機デバイスアレイ,すなわちテンプレート指向成長または領域選択成長(ASG)用に開発した。残念ながら,分子半導体のためのASG法の動的プロセスに関する物理学はまだよく理解されていない。この課題を探索するために,異なる拡散長(L_d)の下での予めパターン化された表面上の粒子の成長を,速度論的モンテカルロ法を用いて,微視的観点からシミュレートした。シミュレーション結果は,粒子のASGが粒子のL_d,前パターン化表面の周期性とサイズに強く関連することを示した。このようなシミュレーション結果が著者らの実験のそれらと良く適合し,機能性分子のパターニングのためのASG法の改善に好都合であった。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： モンテカルロ法 ,  シミュレーション ,  半導体 ,  摩耗 ,  有機半導体 ,  無機質 ,  適応性 ,  *拡散距離 ,  *分子拡散 ,  電子技術 ,  リソグラフィー ,  パターン形成 ,  *選択成長 ,  アレイ
準シソーラス用語： 周期性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 半導体の結晶成長  (BK13040X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 面積 ,  選択的成長 ,  分子拡散