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J-GLOBAL ID:202202223983012923   整理番号:22A0481290

界面疎水性トンネル工学:N_2からNH_3への電気化学的変換を促進するための一般的戦略【JST・京大機械翻訳】

Interface hydrophobic tunnel engineering: A general strategy to boost electrochemical conversion of N2 to NH3
著者 (11件):
資料名:
巻: 92  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: W3116A  ISSN: 2211-2855  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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周囲条件下でN_2とH_2Oからアンモニアを生産することができる電極触媒窒素還元反応(NRR)は,Haber-Bosch(H-B)プロセスの有望な持続可能な代替として浮上している。しかし,それらの不満足の変換効率と選択性が,N_2分子における短命三重結合と競合水素発生反応(HER)により,NRRの実際の利用を厳しく制限する。ここでは,ニトロゲナーゼの局所微小環境から発想を得て,一連の金属電極触媒(Cu,Au,Pt,PdおよびNi)上のヘキサンチオール(HEX)の自己集合単層(SAM)を通してNRR選択性および活性を高めるための容易で一般的な戦略を初めて報告した。分子動力学(MD)シミュレーションは,HEX SAMが水分子の拡散と吸着を妨げる疎水性微小環境を提供し,N_2分子のそれを促進し,HERを阻害し,同時にNRR性能を改善することを示唆する。特に,全ての調製したサンプルの中で,50.5%の最高Faradice効率(FE)が,1.2μgh-1cm-2のNH_3生成速度(R)でCu-HEX上で達成された。注目すべきことに,HER-促進Pt触媒では,26.4μgh-1cm-2の最高Rが,1cm2の電極面積で1.8%のFEでPt-HEXでも達成された。本戦略は,高性能NRR電極触媒をエンジニアする一般的な拡散制御方法を表すだけでなく,NRRプロセスおよび速度論に及ぼす触媒の表面化学の影響への新しい洞察を提供する。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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電気化学反応 

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