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J-GLOBAL ID:202202225192284939   整理番号:22A0316869

真空ろ過によるMoS_2とWS_2薄膜の直接インターカレーション【JST・京大機械翻訳】

Direct intercalation of MoS2 and WS2 thin films by vacuum filtration
著者 (2件):
資料名:
巻:号:ページ: 360-367  発行年: 2022年 
JST資料番号: W2467A  ISSN: 2051-6355  CODEN: MHAOAL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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次世代エレクトロニクスとエネルギーデバイスの開発において,遷移金属ジカルコゲン化物(TMDC)のインターカレーション化合物は,ゲスト種とホスト材料の間の相乗的相互作用から生じるそれらのユニークな特性のために注目を集めている。今日,MoS_2とWS_2のインターカレーション化合物は2段階プロセスにより一般的に調製される。1)単層および/または数層ナノシートを形成する剥離,2)ゲスト種の溶液と剥離懸濁液を激しく混合することにより,ゲスト種でナノシートを再積層する。このアプローチを用いて広範囲のインターカレーション化合物を合成したが,インターカレーションプロセスはしばしば時間がかかり,製品スラリーは材料品質を制限し,キャラクタリゼーションと応用を妨げる。ここでは,薄膜形態における層間挿入TMDCを調製するための多目的方法を報告する。このアプローチを用いて,MoS_2とWS_2(例えばフェロセンとアミンをインターカレートしたMoS_2とWS_2)の一連の既存のインターカレーション化合物を成功裏に調製した。さらに,このインターカレーション法の多用途性を利用して,初めてフェナジンとベンゾキノンをMoS_2とWS_2にインターカレートした。Copyright 2022 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
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分類 (4件):
分類
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金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  その他の無機化合物の結晶構造  ,  分子化合物 
タイトルに関連する用語 (3件):
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