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J-GLOBAL ID：202202225591605032   整理番号：22A0466910

赤外フェムト秒レーザを照射した酸化グラフェンの表面応答への洞察【JST・京大機械翻訳】

Insights into the surface responses of graphene oxide irradiated by an infrared femtosecond laser

著者 (7件)： Ding Ye ( Key Laboratory of Micro-systems and Micro-structures Manufacturing, Ministry of Education, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, People’s Republic of China) ,  Ding Ye ( School of Mechatronics Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, People’s Republic of China) ,  Li Qiang ( School of Mechatronics Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, People’s Republic of China) ,  Li Jingyi ( School of Mechatronics Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, People’s Republic of China) ,  Wang Lianfu ( School of Mechatronics Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, People’s Republic of China) ,  Yang Lijun ( Key Laboratory of Micro-systems and Micro-structures Manufacturing, Ministry of Education, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, People’s Republic of China) ,  Yang Lijun ( School of Mechatronics Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 55  号： 13  ページ： 135101 (12pp)  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化グラフェン(GO)は,電気化学およびオプトエレクトロニクス工学において広い範囲の応用を有する独特で多面的な新規材料として浮上している。これらの応用において,GO表面はマイクロナノスケールで異なる機能構造で特性化されるが,フェムト秒レーザは従来のアプローチと比較してこれらの構造を製造するための有望で多目的なツールである。しかし,フェムト秒レーザ照射下でのGO表面の包括的な表面応答と対応する様式はまだ同定されておらず,特定のナノパターンを有するプログラミングGO表面におけるフェムト秒レーザのさらなる応用への障害を創り出す。ここでは,電気的応答,すなわち,GO表面層における赤外フェムト秒レーザ励起自由電子密度の過渡的空間および時間分布を特徴づける理論モデルを確立した。数値シミュレーションは,5fsの時間ステップで不連続Galerkin有限要素アルゴリズムを用いて行った。レーザ偏光電場と自由電子密度の間の関係を明らかにした。これに基づき,表面プラズマ分布を特性化し,その精度を実験的アブレーション形態の比較を通して検証した。異なるパラメータを用いたGO表面の熱的,形態的および化学的応答を対応して解析し,それから異なる特徴を有する表面ナノパターンの生成および進化メカニズムを説明した。本研究は,多機能デバイス工学の応用のためのGOの超高速パターニングの基本的体制と実現可能性への新しい洞察を提供する。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： アルゴリズム ,  *赤外線 ,  電場 ,  偏光 ,  オプトエレクトロニクス ,  不連続性 ,  アブレーション ,  パターン形成 ,  *フェムト秒レーザ
準シソーラス用語： 理論モデル ,  数値シミュレーション ,  自由電子 ,  ナノスケール ,  ナノパターン ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 赤外 ,  フェムト秒レーザ ,  酸化グラフェン ,  応答 ,  洞察