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J-GLOBAL ID:202202225773003758   整理番号:22A0986834

InAs/InGaAs選択領域成長ナノワイヤの移動度倍増【JST・京大機械翻訳】

Doubling the mobility of InAs/InGaAs selective area grown nanowires
著者 (19件):
資料名:
巻:号:ページ: 034602  発行年: 2022年 
JST資料番号: W3690A  ISSN: 2475-9953  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ナノワイヤとネットワークの選択領域成長(SAG)は,III-V半導体材料に基づくスケーラブルエレクトロニクス,フォトニクス,および量子デバイスに対する経路を約束する。しかし,高移動度SAGナノワイヤの可能性は,界面粗さ,ナノワイヤ/基板界面での不整合転位,および材料相互混合による不均一組成により,未だ完全には実現されていない。ここでは,絶縁GaAs(001)基板上の高格子不整合InAsナノワイヤのSAGを調べ,これらの重要課題に取り組んだ。原子状水素(a-H)を用いて,天然酸化物除去のための従来の熱アニーリングに代わるものとして原子状に平滑なナノワイヤ/基板界面を達成した。InAs輸送チャネルとGaAs基板の間に導入された[数式:原文を参照]バッファ層により,高い格子不整合の問題に取り組んだ。バッファ層とチャネルの両方で観察されたGa-In材料相互混合は成長温度の注意深い調整により抑制された。低温輸送測定と共に走査型透過電子顕微鏡とX線回折分析を行い,最適化Inリッチバッファ層が,10000[数式:原文を参照]以上の電界効果電子移動度を有する高品質InAs輸送チャネルを促進することを示した。これは,非最適化試料の2倍であり,InAs選択領域成長ナノ構造で報告された最高値である。Copyright 2022 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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トランジスタ  ,  半導体薄膜 
タイトルに関連する用語 (5件):
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