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J-GLOBAL ID：202202226351014338   整理番号：22A0695556

フルオロ処理によるスケーリング抵抗:濡れ状態の重要性【JST・京大機械翻訳】

Scaling resistance by fluoro-treatments: the importance of wetting states

著者 (7件)： Liu Li (Shanghai Advanced Research Institute, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201210, China. [e-mail]) ,  Charlton Laura ,  Song Yanqing ,  Li Tao ,  Li Xuemei ,  Yin Huabing ,  He Tao
資料名： Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability  (Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability)
巻： 10  号： 6  ページ： 3058-3068  発行年： 2022年 
JST資料番号： W0204B  ISSN： 2050-7488  CODEN： JMCAET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 膜蒸留は疎水性多孔質膜を用いた熱駆動分離プロセスである。膜蒸留によって直面する様々な問題の中で,スケーリングは,高塩分の河川を処理する際に未解決の課題のままである。超疎水性膜の開発は,CF_4プラズマ処理または一般的に使用されるフルオロ化学改質で,これに対処するための中心的アプローチである。しかし,いくつかの膜がスケーリング抵抗である場合,矛盾する観察がしばしば起こるが,他はそうではない。初めて,スケーリング抵抗に対する一般的に使用されるフルオロ処理の影響の系統的比較によりこの問題を調べた。最先端の表面パターン化マイクロピラー化ポリ(フッ化ビニリデン)膜(MP-PVDF)を用い,CF_4プラズマとフルオロシラン試薬の両方を利用して膜疎水性を強化した。得られた膜CF_4-MP-PVDF(CF_4プラズマによる)とFAS-MP-PVDF(フルオロシランによる)を系統的に特性化し,それらの抗スケーリング性能を過飽和CaSO_4溶液を用いて評価した。両改質膜は水接触角の増加,滑り角の減少及び表面エネルギーを示したが,CF_4-MP-PVDFはFAS-MP-PVDFより良好なスケーリング抵抗を示した。従来の熱力学核形成モデルは,実験観察と矛盾して,両者に対して類似の核形成エネルギー障壁を指示した。代わりに,濡れ状態と水圧表面滑りを決定因子として同定した。滑りによる懸濁濡れ状態のCF4-MP-PVDFは,不安定な遷移状態におけるFAS-MP-PVDFとピン状態の元のMP-PVDFはスケーリングに疑うことができた。これらの結果は,CF_4プラズマ処理とフルオロシラン表面改質によるスケーリング抵抗の差の背後にある基本的機構を初めて明らかにした。Copyright 2022 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 核形成 ,  過飽和 ,  懸濁液 ,  プラズマ ,  *濡れ ,  熱力学 ,  微細構造 ,  表面エネルギー ,  溶液 ,  河川 ,  疎水性 ,  プラズマ処理
準シソーラス用語： 膜蒸留 ,  滑り角 ,  マイクロピラー ,  水接触角 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 物理化学一般その他  (CB01030T) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  エネルギー貯蔵  (LC02000F) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (3件)： スケーリング ,  濡れ ,  重要性