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J-GLOBAL ID：202202227903525892   整理番号：22A0100960

イオンアシストまたはALDキャッピング層による真空-空気シフトからのEBE被覆の保護【JST・京大機械翻訳】

Protecting the EBE coatings from vacuum-air-shift by ion assistance or ALD capping layer

著者 (6件)： Ma Ping (Chengdu Fine Optical Engineering Research Center, Keyuan Road 3, Chengdu, 610041, China) ,  Pu Yunti (Chengdu Fine Optical Engineering Research Center, Keyuan Road 3, Chengdu, 610041, China) ,  Zhang Wei (Shenzhen Gengxu Opto-Electronics Technology Ltd., Dafu Road A8, Shenzhen, 518110, China) ,  Die Junhui (Chengdu Fine Optical Engineering Research Center, Keyuan Road 3, Chengdu, 610041, China) ,  Zhang Mingxiao (Chengdu Fine Optical Engineering Research Center, Keyuan Road 3, Chengdu, 610041, China) ,  Liu Hao (Sichuan Minzu College, Wenhua Road 4, Kangding, 626001, China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 48  号： 2  ページ： 2670-2676  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 真空-空気-シフトは,従来の電子ビーム蒸着(EBE)コーティングに障害を引き起こす。本研究では,イオン支援とALD(原子層堆積)Al_2O_3キャッピング層の保護効果を比較した。真空-空気シフトを,EBE Ta_2O_5単層膜,Ta_2O_5/SiO_2二重層被覆,および高反射率ミラーで再現した。同様の試料をイオンビーム衝撃で支援したEBEによって調製した。堆積したままの被覆の一部は,厚さ約100nmのALD Al_2O_3膜によってキャップされた。試料の真空-空気シフトをその場分光光度計で試験した。被覆の断面を走査型電子顕微鏡により画像化した。イオン支援は真空-空気-シフトを限界範囲に減少させるが,ALDキャッピング膜は真空-空気シフトを除去することが分かった。2つの保護技術の機構を分析し,それらの使用を比較し,議論した。ALDキャッピング技術は,便利で低コストの高精度EBEコーティングに使用できる。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *イオン ,  イオンビーム ,  衝撃 ,  走査電子顕微鏡 ,  分光光度計 ,  *被覆 ,  保護作用 ,  電子ビーム蒸着
準シソーラス用語： 画像化 ,  二重層 ,  *キャップ層 ,  高精度 ,  単層膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ALD ,  キャッピング層 ,  真空-空気-シフト ,  イオン支援

分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (6件)： イオン ,  アシスト ,  ALD ,  キャッピング層 ,  真空 ,  シフト