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J-GLOBAL ID：202202229072248611   整理番号：22A0002519

微量汚染物質除去と殺菌副産物制御による逐次ClO_2-UV/塩素プロセス【JST・京大機械翻訳】

Sequential ClO₂-UV/chlorine process for micropollutant removal and disinfection byproduct control

著者 (9件)： Fan Mengge (School of Environmental Science and Engineering, Guangdong Provincial Key Laboratory of Environmental Pollution Control and Remediation Technology, Sun Yat-sen University, Guangzhou, 510275, China) ,  Yang Xin (School of Environmental Science and Engineering, Guangdong Provincial Key Laboratory of Environmental Pollution Control and Remediation Technology, Sun Yat-sen University, Guangzhou, 510275, China) ,  Kong Qingqing (School of Environmental Science and Engineering, Guangdong Provincial Key Laboratory of Environmental Pollution Control and Remediation Technology, Sun Yat-sen University, Guangzhou, 510275, China) ,  Lei Yu (School of Environmental Science and Engineering, Guangdong Provincial Key Laboratory of Environmental Pollution Control and Remediation Technology, Sun Yat-sen University, Guangzhou, 510275, China) ,  Zhang Xinran (School of Environmental Science and Engineering, Guangdong Provincial Key Laboratory of Environmental Pollution Control and Remediation Technology, Sun Yat-sen University, Guangzhou, 510275, China) ,  Aghdam Ehsan (Department of Civil and Environmental Engineering, The Hong Kong University of Science and Technology, Clear Water Bay, Kowloon, Hong Kong, China) ,  Yin Ran (Department of Civil and Environmental Engineering, The Hong Kong University of Science and Technology, Clear Water Bay, Kowloon, Hong Kong, China) ,  Shang Chii (Department of Civil and Environmental Engineering, The Hong Kong University of Science and Technology, Clear Water Bay, Kowloon, Hong Kong, China) ,  Shang Chii (Hong Kong Branch of Chinese National Engineering Research Center for Control & Treatment of Heavy Metal Pollution, The Hong Kong University of Science and Technology, Clear Water Bay, Kowloon, Hong Kong, China)
資料名： Science of the Total Environment  (Science of the Total Environment)
巻： 806  号： P1  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： C0501B  ISSN： 0048-9697  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,微量汚染物質除去と殺菌副産物(DBP)制御のための逐次ClO_2-UV/塩素プロセスの実現可能性を系統的に明らかにした。結果は,逐次ClO_2-UV/塩素プロセスが12の微量汚染物質の除去に有効であることを示した。ClO_2前処理はUV/塩素プロセスにおける消毒副生成物(DBPs)の生成を減少させた。UV/塩素プロセスと比較して,ClO_2前処理(1.0mgL-1)は6DBPsの生成を25.1~72.2%減少させた。そして,6DBPsの生成電位を13.9~51.8%減少させた。さらに,ClO_2前処理は全有機塩素濃度を19.8%減少させた。ClO_2前処理は種々の方法でUV/塩素プロセスに影響した。第1に,ClO_2前処理は,塩素ラジカル(Cl)とヒドロキシルラジカル(HO)のスカベンジャーとして主に供給される亜塩素酸塩を生成した。第二に,ClO_2前処理はラジカルに対する天然有機物(NOM)の反応性を低下させた。最後に,ClO_2前処理はNOMの特性を変化させ,NOM(SUVA_254)の電子供与能と芳香族性を低下させ,NOMの平均分子量をわずかに減少させた。全体として,ClO_2前処理はUV/塩素プロセスにおけるDBPの生成を効果的に制御した。本研究は,逐次ClO_2-UV/塩素プロセスが微量汚染物質除去とDBP制御のバランスをとるための代替戦略であることを確認した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 電位 ,  *ラジカル ,  前処理 ,  亜塩素酸塩 ,  芳香族性 ,  ヒドロキシルラジカル ,  スカベンジャー
準シソーラス用語： 天然有機物 ,  *消毒副生成物 ,  平均分子量 ,  *微量汚染物質 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ClO_2 ,  UV/塩素プロセス ,  微量汚染物質 ,  天然有機物 ,  殺菌副産物(DBP)

分類 (2件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

タイトルに関連する用語 (5件)： 汚染物質除去 ,  殺菌副産物 ,  逐次 ,  塩素 ,  プロセス