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J-GLOBAL ID:202202229166432896   整理番号:22A0438811

トリメチルアミンの抗湿度検出のためのRh/ZnOナノ構造の原子層蒸着【JST・京大機械翻訳】

Atomic layer deposition of Rh/ZnO nanostructures for anti-humidity detection of trimethylamine
著者 (8件):
資料名:
巻: 355  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: T0967A  ISSN: 0925-4005  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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金属/半導体ハイブリッドナノ構造の設計は,効率的な化学ガスセンサの開発のための重要な戦略である。本論文では,トリメチルアミン(TMA)検出のための高感度ガス検知材料を,ZnO花状ナノ構造上へのRhの原子層堆積(ALD)により設計した。ZnOナノ構造は水熱法で調製した多孔質ナノシートから成り,次にRh触媒で官能化してTMAに対するセンシング特性を探究した。ガス検知研究は,Rhの負荷がセンサの性能に顕著な影響を及ぼすことを示した。10サイクルのRh ALDを有するRh/ZnOセンサは,180°CでTMAに対して最良の応答を示した。11.3の非常に高い応答が10ppmのTMAに暴露されると記録され,それは元のZnOのそれよりも3倍高かった。さらに,センサはまた,迅速な応答回復と優れた湿度抵抗を持ち,また,55ppbの低い検出限界を持ち,サブppmTMAの信頼できる検出の高い可能性を示した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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