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J-GLOBAL ID：202202229792480391   整理番号：22A0695107

CuBi_2O_4とCo-Piの相乗効果:BiVO_4系複合材料のPEC活性の改善【JST・京大機械翻訳】

The synergistic effect of CuBi₂O₄ and Co-Pi: improving the PEC activity of BiVO₄-based composite materials

著者 (7件)： Liu Rui (College of Science, Hubei University of Technology, Wuhan, 430068, China. [e-mail] [e-mail]) ,  Wang Dong ,  Han Changcun ,  Wang Pan ,  Tong Zhengfu ,  Tan Baohua ,  Liu Zhifeng
資料名： New Journal of Chemistry  (New Journal of Chemistry)
巻： 46  号： 6  ページ： 2971-2979  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0785A  ISSN： 1144-0546  CODEN： NJCHE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光電極表面上の反応障壁を減らし,試料表面の水酸化力を増加させることは,光電気化学水分解性能を改良するための鍵となる問題である。本研究では,新しいBiVO_4/CuBi_2O_4/Co-Pi光アノードを調製した。CuBi_2O_4とBiVO_4は,光の吸収範囲を広げるヘテロ接合構造を形成し,光アノード中の光生成キャリアの分離を加速し,それによって,正孔を次の層(共触媒層)により速くできた。Co-Pi成分は界面電荷移動を加速し,活性表面積を増加させる水酸化触媒として作用する。線形掃引ボルタンメトリーを用いてBiVO_4/CuBi_2O_4/Co-Piの光電流密度を決定し,BiVO_4およびBiVO_4/CuBi_2O_4よりもそれぞれ1.88および1.23倍大きかった。これに加えて,BiVO_4/CuBi_2O_4/Co-Pi光アノードは,広範囲の光吸収,より高いキャリア分離効率,およびより大きな水酸化力をもたらす相乗効果をもたらし,再結合後の水素発生および酸素発生速度は,5.68倍および5.66倍増加した。結果は,三元半導体構造が光電気化学性能を改善できることを証明した。この戦略は,光電気化学水分解の開発において大きな可能性を有する。Copyright 2022 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ヘテロ接合 ,  再結合 ,  正孔 ,  光吸収 ,  *相乗作用 ,  電流密度 ,  ヒドロキシ化 ,  光電気化学 ,  光電極 ,  酸素発生
準シソーラス用語： 酸化触媒 ,  水分解 ,  水素発生 ,  三元半導体 ,  光アノード , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (5件)： CO ,  pI ,  相乗効果 ,  複合材料 ,  活性