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J-GLOBAL ID：202202229831181415   整理番号：22A1157092

酸化剤としてH_2O_2による第三アミンのW/HAP触媒N-酸化【JST・京大機械翻訳】

W/HAP catalysed N-oxidation of tertiary amines with H₂O₂ as an oxidant

著者 (3件)： Vishwakarma Rakhi (Department of Chemical Engineering, Institute of Chemical Technology, Nathalal Parekh Marg, Matunga, Mumbai, India) ,  Rathod Virendra (Department of Chemical Engineering, Institute of Chemical Technology, Nathalal Parekh Marg, Matunga, Mumbai, India) ,  Mannepalli Lakshmi Kantam (Department of Chemical Engineering, Institute of Chemical Technology, Nathalal Parekh Marg, Matunga, Mumbai, India)
資料名： Journal of Chemical Sciences  (Journal of Chemical Sciences)
巻： 134  号： 2  ページ： 50  発行年： 2022年 
JST資料番号： W4538A  ISSN： 0974-3626  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化剤として30%過酸化水素(H_2O_2)の存在下,タングステン交換ヒドロキシアパタイト(W/HAP)によるいくつかのN-オキシドの合成を示した。活性触媒を有する安価でクリーンな酸化剤である水性H_2O_2によるプロセスを開発し,廃棄物生産を低減し,グリーンケミストリーの要求を満たす。いくつかの三級アミンは,それらの対応するN-オキシドに,優れた収率で効率的に酸化された。合成したままの触媒(W/HAP)をBET,FTIR,SEM,ICP-OES及びXRDを用いて特性化した。触媒負荷,温度および酸化剤の影響を研究した。モデル反応のための種々の温度と活性化エネルギーにおける反応速度を決定するために,速度モデルを開発した。グラフ抽象:Synopsis。酸化剤として30%過酸化水素(H_2O_2)の存在下,タングステン交換ヒドロキシアパタイト(W/HAP)を用いたいくつかのN-オキシドの合成を示した。活性触媒を有する安価でクリーンな酸化剤である水性H_2O_2によるプロセスを開発し,廃棄物生産を低減し,グリーンケミストリーの要求を満たす。Copyright Indian Academy of Sciences 2022 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  活性化エネルギー ,  *酸化 ,  反応速度 ,  酸化物 ,  *触媒 ,  廃棄物 ,  過酸化水素 ,  ヒドロキシアパタイト ,  *第三アミン ,  グリーンケミストリー
準シソーラス用語： アミンオキシド ,  低価格 ,  速度モデル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： N-オキシド ,  第三アミン ,  ヒドロキシアパタイト ,  グリーンオキシダント ,  動力学的研究

分類 (2件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  酸化,還元  (CF02060T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸化剤 ,  第三アミン ,  触媒 ,  酸化